2020年中國光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀和競爭分析
產(chǎn)業(yè)鏈——在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中占據(jù)重要地位
光刻機(jī)又名:掩模對準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機(jī)是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中最關(guān)鍵設(shè)備,光刻工藝決定了半導(dǎo)體線路的線寬,同時也決定了芯片的性能和功耗。
光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)的上游主要包括光刻機(jī)核心組件和光刻機(jī)配套設(shè)施,下游則主要應(yīng)用于半導(dǎo)體/集成電路的制造與封裝。
產(chǎn)業(yè)政策——政策助力光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展
從政策環(huán)境上來看,我國對于光刻機(jī)行業(yè)較為重視。其主要表現(xiàn)在對于整個IC產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)的政策優(yōu)待以及對于半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的相關(guān)規(guī)劃與推動。其主要表現(xiàn)在資金方面的補(bǔ)助和人才方面的培養(yǎng),以及進(jìn)出口,投融資方面的政策扶持。
在各項政策中較為突出的是《極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝》項目(02專項),其以專項的形式組織了一批國內(nèi)光刻機(jī)企業(yè)進(jìn)行了一系列重點工藝和技術(shù)的攻關(guān),有效促進(jìn)了我國光刻機(jī)行業(yè)的發(fā)展。
請輸入評論內(nèi)容...
請輸入評論/評論長度6~500個字
最新活動更多
- 1 倒計時,7月30—8月1日深圳見!全球智造巨頭聚首,WAIE全數(shù)會智能工業(yè)展及大會邀您共啟智能工業(yè)破局之旅!
- 2 即將召開!全數(shù)會2025中國智能制造數(shù)字化轉(zhuǎn)型大會“劇透”來了!
- 3 “維科杯·OFweek2025中國工業(yè)自動化及數(shù)字化行業(yè)年度評選”入圍名單來了!
- 4 明天深圳見!全數(shù)會2025中國智能制造數(shù)字化轉(zhuǎn)型大會參會指南速碼
- 5 智改數(shù)轉(zhuǎn),質(zhì)效同升 | 全數(shù)會2025中國智能制造數(shù)字化轉(zhuǎn)型大會圓滿落幕